1、靶向制剂最重要的属性是（A ）
A、靶向性
B、生物相容性
C、稳定性
D、敏感性
E、以上都是
2、靶向制剂粒径测定方法不包括（E ）
A、动态光散射（DLS）
B、激光衍射法（LLD）
C、扫 描 电 镜（SEM）
D、透射电镜（TEM）
E、 紫外-可见光分光光度法（UV-Vis）
3、下列靶向制剂属于被动靶向制剂的是D
A、pH敏感脂质体
B、长循环脂质体
C、免疫脂质体
D、普通脂质体
E、热敏脂质体
4、（E ）是利用原子核在磁场内共振所产生的信号经重建成像的一种成像技术
A、核素成像
B、可见光成像
C、超声成像
D、计算机断层摄像
E、核磁共振成像
5、下列哪项不是使被动靶向制剂成为主动靶向制剂的修饰方法？A
A、磁性修饰
B、前体药物
C、糖基修饰
D、PEG修饰
E、免疫修饰